鍍膜后產(chǎn)生的雜質(zhì)：

1、有機(jī)污染物：

來源：鍍膜過程中的光刻膠殘留、油脂、指紋或環(huán)境有機(jī)物。

表現(xiàn)：表面油膜、斑點(diǎn)或霧狀殘留。

2、無機(jī)顆粒：

來源：鍍膜腔體內(nèi)的粉塵、靶材濺射顆粒或搬運(yùn)過程中的塵埃。

表現(xiàn)：附著在表面的微小顆粒或劃痕。

3、水漬或溶劑殘留：

來源：清洗過程中純水或溶劑未完全干燥，留下痕跡。

合適清洗方法：威固特VGT-1509FH光學(xué)超聲波清洗機(jī)

1、非接觸清洗，避免表面損傷：

硒化鋅是一種脆性較高的紅外光學(xué)材料，機(jī)械擦拭易導(dǎo)致劃痕或表面損傷。超聲波清洗通過高頻振動(dòng)產(chǎn)生的空化效應(yīng)，實(shí)現(xiàn)無接觸清洗，避免物理摩擦對(duì)鏡片的損害。

尤其適合ZnSe表面鍍膜（如增透膜）的保護(hù)，防止膜層脫落。

2、高效去除亞微米級(jí)污染物：

超聲波的空化作用可產(chǎn)生微米級(jí)氣泡爆破，能有效去除ZnSe表面的顆粒污染物（如拋光殘留物、灰塵）和有機(jī)污染物（如油脂、指紋）。

對(duì)于復(fù)雜結(jié)構(gòu)（如鏡片邊緣或凹槽），超聲波能實(shí)現(xiàn)全方位清潔，避免手工清洗的盲區(qū)。

3、可控的清洗參數(shù)適配材料特性：

ZnSe對(duì)溫度和化學(xué)溶劑敏感（如易被酸性或堿性溶液腐蝕）。超聲波清洗可精確控制。

頻率（如40KHZ-100KHZ）：高頻適合精密清洗，低頻用于頑固污染物。

溫度（通常≤50℃）：避免高溫導(dǎo)致ZnSe熱應(yīng)力或鍍膜失效。

清洗劑選擇：使用中性或?qū)Ｓ霉鈱W(xué)清洗劑（如無水乙醇、去離子水），避免材料腐蝕。

4、均勻清洗、避免二次污染：

超聲波在清洗槽內(nèi)分布均勻，確保ZnSe鏡片表面各部位清洗效果一致，避免人工操作的不穩(wěn)定性。

清洗后可通過內(nèi)置的多級(jí)漂洗和干燥系統(tǒng)（如氮?dú)獯蹈桑p少水漬殘留，降低二次污染風(fēng)險(xiǎn)。

5、自動(dòng)化與重復(fù)性

集成自動(dòng)化流程（如機(jī)械臂搬運(yùn)）適合批量處理，提高效率的同時(shí)保證每片ZnSe鏡片的清洗質(zhì)量一致，這對(duì)高精度光學(xué)元件至關(guān)重要。

6、使用注意事項(xiàng)：

功率控制：過高的超聲波功率可能導(dǎo)致ZnSe表面微崩（空化沖擊），需根據(jù)鏡片厚度和鍍膜情況優(yōu)化。

溶劑兼容性：避免使用含硫、氯的溶劑，防止與ZnSe發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。

威固特生產(chǎn)制作的光學(xué)超聲波清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)（如頻率可調(diào)、溫控系統(tǒng)、多槽流程）使其在清洗硒化鋅鏡片時(shí)兼具安全性、高效性和一致性，特別適合紅外光學(xué)元件的高標(biāo)準(zhǔn)清潔需求。