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光學玻璃基渦旋波片在制造和封裝過程中可能殘留以下污染物，超聲波清洗可高效去除：
1、拋光殘留物（如氧化鈰、二氧化硅顆粒）。
2、有機污染物（指紋、油脂、灰塵）。
3、金屬離子或無機鹽（來自加工環(huán)境或化學處理）。
4、臨時保護膜或光刻膠殘留（如用于微結構制作的抗蝕劑）。
威固特VGT-1409FH超聲波清洗機所具備的清洗優(yōu)勢等技術功能如下：
相比傳統(tǒng)清洗方法（如手動擦拭、噴淋清洗），威固特VGT-1409FH超聲波清洗機在光學玻璃基渦旋波片生產中具有以下優(yōu)勢：
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優(yōu)勢 |
說明 |
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高效去污 |
超聲波空化效應可深入微米級結構，清除頑固顆粒和有機殘留。 |
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均勻清洗 |
避免人工擦拭造成的局部劃傷或污染不均勻問題。 |
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批量處理 |
可同時清洗多片波片，提高生產效率。 |
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減少化學溶劑用量 |
超聲波增強清洗液活性，降低對強酸/堿溶劑的依賴。 |
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可控性強 |
通過調整頻率、功率時間優(yōu)化清洗效果，適配不同污染性。 |
威固特VGT-1409FH超聲波清洗機推薦技術參數（為確保清洗效果并避免損傷）：
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參數 |
推薦范圍 |
注意事項 |
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頻率 |
25-40KHZ |
低頻（25KHZ）適合去大顆粒，高頻（40KHZ）適合精細清洗，但需避免過高頻率導致微結構共振。 |
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功率密度 |
30-50W/L |
功率過高可能損傷鍍膜或導致玻璃表面微裂紋。 |
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清洗時間 |
1-3分鐘 |
過長時間可能引發(fā)材料疲勞（尤其對鍍膜波片）。 |
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清洗液 |
去離子水 + 中性表面活性劑（如5%異丙醇） |
避免強酸/堿溶液腐蝕鍍膜或玻璃。 |
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溫度 |
20-40℃ |
適當升溫可提升清洗效率，但超過50℃可能影響某些光學膠或鍍層穩(wěn)定性。 |
威固特VGT-1409FH超聲波清洗機分步清洗流程：
步驟1：預清洗（可選）
目的：去除大顆粒松散污染物，減少超聲波負載。
方法：
用氮氣槍吹掃波片表面。
浸泡于去離子水中，手動搖晃10秒。
步驟2：超聲波主清洗
參數：
清洗液：按污染類型選擇。
功率：8W/L（如10L槽體=80W）。
時間：2分鐘。
操作：
將波片裝入支架，完全浸沒于清洗液（液面高出波片≥2cm）。
啟動超聲波，觀察清洗液流動是否均勻（避免死角）。
步驟3：漂洗
目的：去除清洗液殘留。
方法：
一級漂洗：超純水（電阻率≥18.2 MΩ·cm）中浸泡1分鐘，輕微搖晃。
二級漂洗：流動超純水沖洗30秒（流速1L/min）。
步驟4：干燥
氮氣吹干：
使用0.1μm過濾的氮氣，壓力≤0.2MPa。
從波片中心向外螺旋式吹掃，角度45°（避免液滴殘留）。